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CMOSFET 特性探討
下载该文档 文档格式:PDF 更新时间:2011-10-31 下载次数:0 点击次数:1
接觸孔蝕刻停止層之伸張應力對 新穎 CMOSFET 特性探討 王柏清 正修科技大學 電子工程研究所 Ⅰ 摘要 利用覆蓋氮化矽接觸孔蝕刻停止 層 (Contact Etch Stop Layer,CESL) 對 CMOSFET施與單軸伸張應力 ,藉此探 討CESL會對nMOSFET特性的 ...
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